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X光繞射實驗室

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實驗室名稱

X光繞射實驗室

分機電話

4096

位置

材料大樓B6014

設備

1. 極圖繞射儀(Bruker D8):鈷靶,點光源,配備毛細管透鏡(平行光、聚焦光束及顯微光束 三種)。

2. 高解析繞射儀(Bruker D8):銅靶,線光源,聚焦透鏡,Ge(220)非對稱單光儀,二次側 可變狹縫光柵與三軸晶體。

3. 粉末繞射儀(Siemens D5000):銅靶,線光源,配備石墨單光儀。

研究方向

1.極圖 (pole figure)量測分析

2.結晶方位分布函數計算(lattice parameter)之準確測定

3.ω-2θ,ω,2θ,Phi,Chi繞射分析(x-ray pattern data search)

4.X光低掠角繞射分析 (Grazing incidence X-Ray Diffraction)

5.高解析磊晶繞射分析(HRXRD)(Residual Stress Analysis

6.多晶塊材及粉末繞射分析(Residual Stress Analysis

7.X光反射率 (X-Ray Reflectometry)量測及厚度模擬分析(Pinhole Laue pattern 照相)

技術人員/學生

李秀月技士

圖片

連結網址

http://khvic.nsysu.edu.tw/khvic/JL/63.htm

負責教授

周明奇

參與教授

張六文 / 黃炳淮